Verfahren zum Abscheiden von photokatalytischen Titanoxid-Schichten

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden einer photokatalytischen Titanoxid-Schicht auf mindestens einem Objekt mittels Hochrate-Elektronenstrahlbedampfung in einer Vakuumkammer, wobei in der Vakuumkammer eine sauerstoffhaltige Atmosphaere erzeugt wird; ein ueberwiegend Ti-Bestandteile aufweisendes Material mittels eines Elektronenstrahls verdampft wird; das Abscheiden von einem Plasma unterstuetzt wird, wobei das Plasma mittels diffuser Bogenentladung auf der Oberflaeche des als Kathode geschalteten zu verdampfenden Materials erzeugt wird; die Beschichtungsrate mindestens 20 nm/s betraegt; die Objekttemperatur waehrend des Abscheidens zwischen 100°C und 500°C gehalten wird und die Titanoxid-Schicht kristallin und ueberwiegend als Anatas-Phase abgeschieden wird.

WO2006027106 A UPAB: 20060331 NOVELTY - In a process to apply a photocatalytic titanium oxide coating to an object, a high-speed electron beam is directed at the object in an evaporation chamber. In the process an atmosphere containing oxygen is generated in the chamber while material (3) containing mainly titanium is evaporated by an electron beam (5). Deposition is reinforced by a plasma generated on the surface of the cathode material (5) and evaporated by an arc discharge. The coating rate is at least 20 nm/s. The temperature is maintained at 100-500 deg. C during deposition. The titanium oxide layer is deposited primarily as an anatase phase, and in crystalline form. USE - Used for the application of a photocatalytic titanium oxide coating to a self-cleaning object, e.g. a window. ADVANTAGE - The coating application rate is faster and has better photocatalytic performance than prior art.