Textur- und Reinigungsmedium zur Oberflaechenbehandlung von Wafern und dessen Verwendung

(A1) Die Erfindung betrifft ein fluessiges Medium fuer die Oberflaechenbehandlung von monokristallinen Wafern, das ein alkalisches Aetzmittel sowie mindestens eine schwer fluechtige organische Verbindung enthaelt. Derartige Systeme koennen sowohl fuer die Reinigung, Schadensaetze und Texturierung von Waferoberflaechen in einem einzigen Aetzschritt als auch ausschliesslich fuer die Texturierung von Silizium-Wafern mit unterschiedlicher Oberflaechenqualitaet, seien es nun drahtgesaegte Wafer mit starker Oberflaechenschaedigung oder chemisch polierte Oberflaechen mit minimaler Schaedigungsdichte, eingesetzt werden.

DE 102007058829 A1 UPAB: 20090619 NOVELTY - A water-based texture- and cleaning agent is employed to treat the surface mono-crystalline wafers. The agent incorporates one or more alkaline etching agents for mono-crystalline silicon and a low-volatile organic compound with a boiling point of more than 110 degrees C. The low-volatile organic compound has a boiling point of 102 degrees C to 150 degrees C. USE - Water-based texture- and cleaning agent for manufacture of solar cells. ADVANTAGE - The water-based texture- and cleaning agent facilitates the adoption of simpler chemical processes.