Gasentladungsquelle, insbesondere fuer EUV-Strahlung

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Gasentladungsquelle, insbesondere fuer EUV-Strahlung und/oder weiche Roentgenstrahlung, bei der in einer Vakuumkammer zumindest zwei Elektroden mit einem zumindest annaehernd kreisfoermigen Umfang fuer eine Rotation drehbar gelagert sind, wobei die Elektroden an einer Raumposition einen geringen Abstand fuer die Zuendung einer Gasentladung aufweisen und jeweils mit einem Reservoir fuer ein fluessiges, elektrisch leitfaehiges Material derart in Verbindung stehen, dass sich waehrend der Rotation ueber den kreisfoermigen Umfang der Elektroden ein Fluessigkeitsfilm des elektrisch leitfaehigen Materials bilden kann und ueber die Reservoirs ein Stromfluss zu den Elektroden ermoeglicht wird. Die Elektroden sind bei der vorliegenden Gasentladungsquelle jeweils ueber ein Verbindungselement mit den Reservoirs verbunden, durch das ueber einen Teilabschnitt des kreisfoermigen Umfangs jeder Elektrode ein Spalt zwischen der Elektrode und dem Verbindungselement entsteht, in dem das fluessige Material bei der Rotation der Elektrode ueber einen im Verbindungselement ausgebildeten Zulaufkanal aus dem Reservoir eindringen kann.

WO 2006123270 A2 UPAB: 20070123 NOVELTY - The source has two electrodes (1) with an approximately circular periphery rotatably mounted for rotation in a vacuum chamber. The electrodes are respectively connected to reservoirs (4) for a liquid via a connecting unit, where the connecting unit is designed in such a way that a gap tapers in a rotation direction of the electrodes. The reservoirs are positioned relatively freely so that the reservoirs no longer impair downward radiation emission. USE - Used in extreme ultraviolet (EUV) lithography and metrology for EUV radiation and soft X-ray radiation. ADVANTAGE - The reservoirs are positioned relatively freely so that the reservoirs no longer impair the downward radiation emission, thus ensuring that the two electrodes no longer have to dip into metal baths, and avoiding occurrence of any short-circuit between the metal baths.