Vorrichtung zum Aufdampfen eines Beschichtungsmaterials

Eine Vorrichtung zum Aufdampfen eines Beschichtungsmaterials auf einem Substrat umfasst einen Behaelter mit einer Dampfaustrittsoeffnung, wobei die Dampfaustrittsoeffnung ausgelegt ist, einen Dampf in einer Dampf-Richtung auf das Substrat zu richten, und eine Verdampfungs-Quelle, die innerhalb des Behaelters angeordnet ist und ausgelegt ist, ein in einem Behaelter angebrachtes Beschichtungsmaterial in einer Quellen-Richtung zu verdampfen, wobei der Behaelter einen unteren und einen oberen Bereich hat, wobei in dem unteren Bereich die Verdampfungs-Quelle angeordnet ist und die Dampfaustrittsoeffnung nicht angeordnet ist, wobei in dem oberen Bereich die Dampfaustrittsoeffnung angeordnet ist und die Verdampfungs-Quelle nicht angeordnet ist, wobei der Behaelter eine Seitenwand und einen oberen und einen unteren Deckel hat, wobei sich die Seitenwand von dem oberen zu dem unteren Deckel durchgehend erstreckt und wobei in dem oberen Bereich der Seitenwand die Dampfaustrittsoeffnung ausgebildet ist, so dass der Dampf in der Dampf-Richtung abgestrahlt wird, die sich von der Quellen-Richtung unterscheidet.

DE1005010930 A UPAB: 20060616 NOVELTY - Device (111) for vaporizaion of coating material onto a substrate, includes a holder (125) with a vapor exit hole (127) located in the upper part of the container so that vapor is directed onto the substrate, and a vaporization source (143), located in the lower part of the holder. USE - The device is useful for vapor deposition of thin metal and semiconductor layers on films and plates. ADVANTAGE - The device is simple and cost effective to produce.