Kalibriernormal und Verfahren zu seiner Herstellung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Kalibriernormal (1) zum Kalibrieren eines Tastschnittmessgerätes oder eines optischen Messgerätes mit einem Trägersubstrat (2) und einer auf das Trägersubstrat (2) aufgebrachten ersten Kalibrierstruktur (3), wobei die erste Kalibrierstruktur (3) eine erste Topographie (4) aufweist, die derart ausgestaltet und auf dem Trägersubstrat (2) angeordnet ist, dass sie eine Kalibrierung einer ersten metrologischen Eigenschaft des Messgerätes ermöglicht. Um ein Kalibriemormal (1) und ein Verfahren zur Herstellung eines Kalibriernormals (1) bereitzustellen, welche mit einem einzelnen Kalibriernormal (1) ein ganzheitliches Kalibrieren von Messgeräten ermöglicht, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Kalibriernormal (1) weiterhin mindestens eine auf das Trägersubstrat (2) aufgebrachte zweite Kalibrierstruktur (3) aufweist, wobei die zweite Kalibrierstruktur (3) eine zweite Topographie (4) aufweist, die derart ausgestaltet und auf den Trägersubstrat (2) angeordnet ist, dass sie eine Kalibrierung einer zweiten metrologischen Eigenschaft des Messgerätes ermöglicht, wobei die erste Topographie (4) und die zweite Topographie (4) voneinander verschieden sind.

The invention relates to a calibration standard (1) for calibrating a stylus measuring instrument or an optical measuring instrument, comprising a carrier substrate (2) and a first calibration structure (3) applied to the carrier substrate (2), the first calibration structure (3) having a first topography (4), which is designed in such a way and is arranged on the carrier substrate (2) in such a way that the first topography enables a calibration of a first metrological property of the measuring instrument. The aim of the invention is to provide a calibration standard (1) and a method for producing a calibration standard (1) that enable a complete calibration of measuring instruments by means of a single calibration standard (1). This aim is achieved, according to the invention, in that the calibration standard (1) also has at least one second calibration structure (3) applied to the carrier substrate (2), the second calibration structure (3) having a second topography (4), which is designed in such a way and is arranged on the carrier substrate (2) in such a way that the second topography enables a calibration of a second metrological property of the measuring instrument, the first topography (4) and the second topography (4) being different from each other.