Verfahren zur Herstellung einer haftvermittelnden Beschichtung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Trägermaterials, wobei die Beschichtung über eine plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck (AP-PECVD) im Remote-Betrieb erfolgt und wobei- die Gasmengenströme des Plasmagases, des Trägergases und des Precursors der folgenden Bedingung genügen:- und die mittlere eingespeiste Leistung und der Gasmengenstrom des Precursors der folgenden Bedingung genügen: