Verfahren zum Herstellen eines mikroelektronischen Systems mit funktionalen Dünnschichten

Die Erfindung betrifft ein mikroelektronisches System (10) sowie ein Verfahren (100) zum Herstellen eines solchen mikroelektronischen Systems (10), wobei das mikroelektronische System (10) ein auf einem Substrat (14) angeordnetes erstes elektronisches Element (11) mit einer ersten funktionalen Dünnschicht (31) und ein auf dem Substrat (14) angeordnetes zweites elektronisches Element (12) mit einer zweiten funktionalen Dünnschicht (32) aufweist, wobei die erste funktionale Dünnschicht (31) und die zweite funktionale Dünnschicht (32) prozessbedingt unterschiedliche Funktionalitäten aufweisen. Erfindungsgemäß wird hierbei ein Substrat (14) mit einem ersten Abschnitt (21) und einem zweiten Abschnitt (22) bereitgestellt, wobei der erste Abschnitt (21) plan ist und der zweite Abschnitt (22) eine Vertiefung aufweist, oder wobei der erste Abschnitt (21) und der zweite Abschnitt (22) jeweils eine Vertiefung mit unterschiedlichen Aspektverhältnissen aufweisen. Erfindungsgemäß werden ferner die erste funktionale Dünnschicht (31) auf dem ersten Abschnitt (21) und die zweite funktionale Dünnschicht (32) auf dem zweiten Abschnitt (22) in einem gemeinsamen Prozessschritt unter Anwendung einer chemischen Gasphasenabscheidung gleichzeitig abgeschieden.