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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Verfahren und Vorrichtung zur selektiven Modifikation der Schichtmorphologie in Supraleitern
 
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Patent
Title

Verfahren und Vorrichtung zur selektiven Modifikation der Schichtmorphologie in Supraleitern

Abstract
Verfahren zur lokalen Phasenumwandlung und Strukturierung von Dünnschichten aus supraleitenden Materialien, umfassend die Schritte:Abscheidung einer Dünnschicht (1) aus einem supraleitenden Material in einer keramischen oder isolierenden Phase auf einem Trägersubstrat (2) in einer Abscheideanlage (3),lokaler Wärmeeintrag in die Dünnschicht (1), wobei Bereiche der Dünnschicht (1) erwärmt werden und eine Phasenumwandlung in eine supraleitende Phase (8) erfahren, sodass Bereiche der supraleitenden Phase (8) in der isolierenden Phase eingebettete Strukturen bilden.
Inventor(s)
Hofmann, Christian
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS  
Vogel, Klaus  
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS  
Braun, Silvia  
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS  
Cirulis, Imants
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS  
Marri, Karthik Kalyan
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS  
Kuhn, Harald  
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS  
Link to:
Espacenet
Patent Number
DE102023210469 A1
Publication Date
April 24, 2025
Language
German
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS  
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