Verfahren zum Dotieren einer Graphen-Schicht

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Dotieren einer Graphen-Schicht (2), bei welchem die Graphen-Schicht (2) auf einem Trägersubstrat (1) abgeschieden, das Trägersubstrat (1) von der Graphen-Schicht in einer ersten Flüssigkeit (4) entfernt und die Graphen-Schicht (2) auf einen zu beschichtenden Oberflächenbereich eines Zielsubstrates (5) in einer zweiten Flüssigkeit (7) aufgetragen wird. Erfindungsgemäß wird ein Material (6) zum Dotieren der Graphen-Schicht (2) zumindest auf dem zu beschichtenden Oberflächenbereich des Zielsubstrates (5) abgeschieden, bevor die Graphen-Schicht (2) in der zweiten Flüssigkeit (7) auf den zu beschichtenden Oberflächenbereich des Zielsubstrates (5) aufgetragen wird.