Verfahren zum Herstellen elektrisch leitfähiger Strukturen

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen elektrisch leitfähiger Strukturen und insbesondere auf einen strukturerzeugenden, stromlosen Galvanikprozess unter Nutzung einer unedlen Opfermaske. Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte:Bereitstellen eines Substrats (100);Beschichten des Substrats (100) mit einer Starterschicht (104), auf der die leitfähigen Strukturen (112) aufwachsen können;Aufbringen einer strukturierten Maskierungsschicht (106), wobei die Maskierungsschicht (106) ein zweites Metall aufweist, das weniger edel ist als das erste Metall;Durchführen eines stromlosen Galvanikprozesses, bei dem die leitfähigen Strukturen (112) aufwachsen und die Maskierungsschicht sich wenigstens teilweise auflöst.