Prozesstolerante Justiermarken

Die Erfindung betrifft prozesstolerante Justiermarken fuer die Justierung zweier vertikal zu koppelnder optischer Komponenten, von denen eine mindestens einen Wellenleiter und ein optisches Koppelelement aufweist. Diese Justiermarken (M) sind gebildet aus auf das optische Koppelelement (KE) auftreffendes Justierlicht (L), wobei das Justierlicht (L) ueber zwei parallel zum und in derselben Hoehe wie der Wellenleiter (WL) angeordnete Hilfswellenleiter (HWL1, HWL2) gefuehrt ist, deren eines Ende Mittel zum Einkoppeln des Justierlichts (L) in die Hilfswellenleiter (HWL1, HWL2) aufweist und das andere Ende der beiden Hilfswellenleiter (HWL1, HWL2) auf das Koppelelement (KE), das ein gemeinsames fuer Wellenleiter (WL) und Hilfswellenleiter (HWL1, HWL2) ist, gerichtet ist. Der Vorteil der erfindungsgemaessen Justiermarken besteht in ihrer individuellen Erzeugung bezueglich eines jeden Koppelelementes (KE), wodurch auch bei Aenderung der Lage des Koppelelementes (KE) die Justiermarken (M) immer im selben Verhaeltnis zu dem eigentlichen Koppelpunkt (KP) platziert bleiben.

DE 102006030363 B3 UPAB: 20070529 NOVELTY - Alignment marks for aligning two optical components to be coupled vertically of which one, at least, has a waveguide and an optical coupling element. The alignment marks are formed from alignment light incident on the optical coupling element (KE), in which the alignment light is taken via two parallel auxiliary waveguides (HWL1,HWL2) arranged at the same height as the waveguide (WL), and whose one end has a device for coupling the alignment light in the auxiliary waveguides and whose other end is aligned on the coupling element, which is common for the waveguide and the auxiliary waveguides. USE - For aligning two vertically-coupled optical components e.g., in integrated optics in micrometer range; at least one waveguide and an optical coupling element are involved. ADVANTAGE - Has improved accuracy of alignment marks compared with earlier specifications.