Verfahren zum Strukturieren einer Substratoberfläche

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen nanoskopischer und/oder mikroskopischer Oberflächenstrukturen auf einem flächig ausgedehnten Substrat, wobei die Oberflächenstruktur des Substrates mittels eines Ionenätzprozesses verändert wird. Dabei wird zunächst ein Lack, welcher eine grenzflächenaktive Substanz mit einer Konzentration von 0,01 bis 5 Gewichtsprozent aufweist, auf dem Substrat aufgetragen, anschließend der auf dem Substrat aufgetragene Lack in eine feste Form überführt und danach der Ionenätzprozess durchgeführt.

A method for the production of nanoscopic and/or microscopic surface structures on a flat substrate is provided, wherein the surface structure of the substrate is changed through the use of an ion etching process. First, a coating that features a boundary surface-active substance with a concentration of 0.01 to 5 percent by weight is applied to the substrate. The coating applied to the substrate is subsequently transformed into a solid form, and the ion etching process is then performed.