Vorrichtung zum Durchfuehren von thermischen und nicht-thermischen Elektronenstrahlprozessen

(A1) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Durchfuehren von Elektronenstrahlprozessen an mindestens einem Substrat, umfassend eine evakuierbare Arbeitskammer, einen in der Arbeitskammer angeordneten Substrathalter und einen Axialstrahler zum Erzeugen eines in die Arbeitskammer gerichteten Elektronenstrahls, wobei der Axialstrahler einen Strahlerzeuger und einen Strahlfuehrungsraum aufweist. Die Vorrichtung umfasst weiterhin ein Trennelement, welches mittels loesbarer Befestigungselemente entweder innerhalb der Arbeitskammer derart fixierbar ist, dass die Arbeitskammer einen ersten, direkt an den Axialstrahler angrenzenden Bereich und einen zweiten, den Substrathalter umfassenden Bereich aufweist, wobei der Trennelementabschnitt, auf den der Elektronenstrahl auftrifft, als Elektronenaustrittsfenster ausgebildet ist oder aus dem direkten Einwirkbereich des Elektronenstrahls entfernbar ist.

DE 102007021897 A1 UPAB: 20081205 NOVELTY - Device for carrying out an electron beam process comprises a separating element (10) which is fixed within a working chamber (2) using detachable fixing elements (11). The working chamber has a first region (12) directly arranged on an axial radiator and a second region (13) with a substrate holder (8). A separating element section, on which the electron beam (4) hits, is formed as an electrons outlet window (16). USE - Device for carrying out an electron beam process. ADVANTAGE - The beam guiding parameters can be easily adjusted.