Optische Anordnung zur gleichzeitigen Ausbildung von Oberflächenstrukturen an einem Substrat mittels direkter Laserinterferenzstrukturierung

Bei der optischen Anordnung zur gleichzeitigen Ausbildung von Oberflächenstrukturen an einem Substrat mittels direkter Laserinterferenzstrukturierung ist die jeweilige Oberflächenstruktur mit linienförmigen Einzelelementen ausgebildet. Es werden linienförmige Einzelelemente ausgebildet, die in einem Winkel ungleich 0 ° zueinander ausgerichtet sind. Ein von einer Laserstrahlquelle emittierter Laserstrahl (1) ist auf ein diffraktives optisches Element (2) gerichtet, mit dem der Laserstrahl (1) in mindestens vier Teilstrahlen (1.1, 1.2, ....1.X) aufteilbar ist. Die Teilstrahlen (1.1, 1.2, ... 1.X) treffen auf ein zweites optisches Element (4) auf, mit dem die Teilstrahlen (1.1, 1.2, ... 1.X) zueinander ausrichtbar sind. Die Teilstrahlen (1.1, 1.2, ... 1.X) werden mittels eines fokussierenden optischen Element (6) in Richtung einer Oberfläche eines Substrates fokussiert und miteinander interferierend gerichtet. Im Strahlengang von mindestens zwei der Teilstrahlen (1.1, 1.2, ...oder 1.X) ist ein optisches Element (5.1, 5.2, ....5.Y) angeordnet, das für die Laserstrahlung transparent ist und dessen Lichtgeschwindigkeit für die Laserstrahlung kleiner als die Lichtgeschwindigkeit für den Werkstoff eines optischen Elements oder eines Mediums, insbesondere Luft ist, durch das die jeweils anderen Teilstrahlen (1.1, 1.2, ... 1.X) in Richtung der zu strukturierenden Oberfläche des Substrates gerichtet sind.