Duennschichtwiderstand

Die Erfindung betrifft einen Duennschichtwiderstand bzw. ein Duennschichtwiderstandsnetzwerk, das auf allen Gebieten der Elektronik eingesetzt wird. Aufgabe der Erfindung ist es, unerwuenschte Einfluesse der Elektronenstrahlbearbeitung zu vermeiden. Erfindungsgemaess werden auf dem mit der Widerstandsschicht versehenen Substrat lithographisch Strukturelemente aufgebracht. Der Abgleich der Widerstaende erfolgt mittels Elektronen- oder Laserstrahl derart, dass die Strukturelemente zu Trimmbahnen oder Trimmelementen ergaenzt sind.

FR 2555800 A UPAB: 19930925 A resistive film (2) is deposited on an insulating substrate (1). Contact pads (3,5) pass current into and out of the film. Elements of the resistive film are removed by screen-print etching and by machining with laser or electron beams. A pattern of square-angled structuring elements (9) is screen printed onto the film along the pathways taken by the current. Trimming slots (10), defining the pathways, are machined along lines of structuring elements intersecting them uniformly mid-way along their bases. Material adjacent to the trimming slots is raised to a high temperature during machining and the temperature coefficient of resistance and resistivity values are altered as a result. The structuring elements cut-down current flow near the edges of machined lines to preserve stability of the resistance value. ADVANTAGE - The shortcomings of machining trimming-slots with laser beams are reduced. 1/3