Vorrichtung zum Beeinflussen einer Ausbreitung eines bei einem Vakuumlichtbogenprozess gebildeten Plasmas

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beeinflussen einer Ausbreitung eines bei einem Vakuumlichtbogenprozess gebildeten Plasmas, mit einer Vakuumkammer, in der mindestens eine Anode (2) und mindestens eine Kathode (1) in einem Abstand zueinander angeordnet und an eine elektrische Stromquelle (9) angeschlossen sind. In der Vakuumkammer ist ein die Anode bildendes Element (2) angeordnet, das mindestens eine parallel zu der Kathode (1) ausgerichtete Schiene (3, 4) oder ein hohlzylinderförmiges Element aufweist, wobei das die Anode bildende Element (2) zumindest teilweise aus einem ferromagnetischen Werkstoff ausgebildet ist, zumindest teilweise mit dem ferromagnetischen Werkstoff beschichtet oder damit belegt ist oder aus mehreren, räumlich voneinander beabstandeten Teilen gebildet ist, die jeweils aus dem ferromagnetischen Werkstoff ausgebildet sind oder mit dem ferromagnetischen Werkstoff beschichtet oder belegt sind.