Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuum

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuum, bei dem aus einem Target unter Verwendung eines Laserstrahls ein Plasma erzeugt und ionisierte Teilchen des Plasmas auf dem Substrat als Schicht abgeschieden werden, wobei inertes reaktives Gas oder ein Gasgemisch zugefuehrt wird. Mit der erfindungsgemaessen Loesung, soll eine Moeglichkeit vorgegeben werden, um Gase bzw. Gasgemische lokal und zeitlich definiert zufuehren zu koennen. Erfindungsgemaess wird diese Aufgabe dadurch geloest, dass das Gas bzw. Gasgemisch aus und/oder durch ein poroeses Target dem Plasma zugefuehrt wird, wobei das Target durch seine Poroesitaet eine Zwischenspeicherfunktion aufweisen soll.

WO 200012775 A UPAB: 20000426 NOVELTY - A gas or a gas mixture is supplied to the plasma out of and/or through a porous target (1) functioning as an intermediate storage unit. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is given for an apparatus having such a target made of an appropriate material. USE - For coating of substrates in vacuum. ADVANTAGE - Gas or gas mixture supply takes place in a mode which is defined with respect to location and/or time.