Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung und/oder Oberflaechenbehandlung von Substraten mittels Niederdruck-Plasma

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Beschichtung und/oder Oberflaechenbehandlung von Substraten mittels Niederdruck-Plasma, in deren Innenraum mindestens ein Substrat angeordnet ist. Die Glimmentladung wird dabei mittels Kathoden und Anoden erzeugt. Ebenso betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Oberflaechenbehandlung und/oder Beschichtung von Substraten mittels Niederdruck-Plasma in besagter Vorrichtung. Verwendung findet die erfindungsgemaesse Vorrichtung zur Oberflaechenbehandlung von Substraten, beispielsweise der Reinigung und Aktivierung sowie zur Herstellung von Verschleissschutz-, Korrosionsschutz- oder Antihaftschichten.

WO 200292871 A UPAB: 20030204 NOVELTY - Device for coating and/or surface treating substrates using a low pressure plasma comprises a cathode, an anode, and an auxiliary electrode with passages arranged between the substrate and the cathode forming an outer chamber. A glow discharge is generated between the anode and cathode. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a process for coating and/or surface treating substrates using a low pressure plasma in the above device. USE - Used in the production of anti-wear and corrosion protection layers as optical or electrical functional layer and/or anti-adhesion layers, and for coating substrates with plasma polymer layers, amorphous or crystalline carbon layers, silicon- and/or metal-containing layers (claimed). ADVANTAGE - A high layer deposition rate can be achieved.