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Patent
Title
Gasentladungsquelle, insbesondere fuer EUV-Strahlung
Other Title
Gas discharge source for generating extreme UV radiation, has narrow gap formed between cathode and anode bodies, where width of gap is less than specific value outside discharge area as compared to distance in discharge area
Abstract
(A1) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Gasentladungsquelle, insbesondere zur Erzeugung von EUV-Strahlung und/oder weicher Roentgenstrahlung, mit mindestens zwei Elektrodenkoerpern, von denen ein erster Elektrodenkoerper eine drehbar gelagerte Elektrodenscheibe umfasst. Weiterhin umfasst die Gasentladungsquelle einen Drehantrieb fuer die Elektrodenscheibe, eine Einrichtung zum Aufbringen eines fluessigen Films eines Targetmaterials auf eine radiale Aussenflaeche der Elektrodenscheibe und einen Laser zur Emission eines Laserstrahls, der in einem Entladungsbereich auf die radiale Aussenflaeche der Elektrodenscheibe gerichtet ist, um Targetmaterials aus dem fluessigen Film zu verdampfen. Die Gasentladungsquelle zeichnet sich dadurch aus, dass zwischen den Elektrodenkoerpern ein Zwischenraum gebildet ist, der ausserhalb des Entladungsbereiches eine gegenueber einem Abstand im Entladungsbereich verringerte Breite von < 5 mm aufweist. Mit der vorgeschlagenen Gasentladungsquelle laesst sich die erzeugte Strahlung in einfacher Weise ueber einen groesseren Raumwinkelbereich emittieren, ohne durch die Elektroden abgeschattet zu werden.
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WO 2009077980 A1 UPAB: 20090720 NOVELTY - The source has a cathode body (110) and an anode body (120), where the cathode body comprises a rotatable cathode wheel (100). A film applying device applies a liquid film of a liquid tin (140) onto a radial outer surface of the wheel. A laser emits a focused laser pulse (190) onto a discharge area (240) in the wheel to evaporate target material from the liquid film. A narrow gap (160) is formed between the cathode and anode bodies, where the width of the gap is reduced to less than 5 millimeters outside the discharge area as compared to distance in the discharge area. USE - Gas discharge source for generating extreme UV (EUV) radiation and/or soft X-radiation. ADVANTAGE - The source enables emission of the generated radiation in a simple manner through a larger solid angle, without being shadowed by the electrodes. The source regenerates the electrode surface subjected to the gas discharge continually, so that the base material of the electrodes is not subjected to wear. The rotatable cathode wheel rotates through the metal melt, thus enabling the wheel heated by the gas discharge to efficiently dissipate energy to the melt and eliminating need for separate cooling. The electric resistance between the rotatable cathode wheel and the metal melt is very low, thus enabling transmission of very high currents via the melt to the wheel.
Inventor(s)
Neff, W.
Patent Number
102007060807
Publication Date
2007
Language
German