Verfahren zum Abscheiden einer LiPON-Schicht auf einem Substrat

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden einer LiPON-Schicht auf einem Substrat (1), wobei das sich in einem Gefäss (2) befindende Verdampfungsmaterial (3), welches mindestens die chemischen Elemente Lithium, Phosphor und Sauerstoff umfasst, innerhalb einer Vakuumkammer verdampft wird. Dabei wird das Verdampfungsmaterial (3) mittels mindestens einer thermischen Verdampfungseinrichtung (4a; 4b) erhitzt und gleichzeitig entweder eine stickstoffhaltiges Komponente in die Vakuumkammer eingelassen oder ein stickstoffhaltiges Material co-verdampft und wobei die vom Gefäss (2) aufsteigende Dampfpartikelwolke vor dem Abscheiden auf dem Substrat von einem Plasma (7) durchdrungen wird.

The invention relates to a method for depositing a LiPON layer on a substrate (1), wherein the vaporisation material (3), comprising at least the chemical elements lithium, phosphorus and oxygen, and situated in a vessel (2) is vaporised inside a vacuum chamber. The vaporisation material (3) is heated by means of at least one thermal vaporisation device (4a; 4b) and simultaneously either a nitrogen-containing component is introduced into the vacuum chamber or a nitrogen-containing material is co-vaporised, the vapour particle cloud rising from the vessel (2) being penetrated by a plasma (7) before deposition onto the substrate.