Fraunhofer-Gesellschaft

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Reinheitsspezifikationen der Halbleiterindustrie an Werkstoffen

Vortrag gehalten auf der Lounges 2012, Vision Pharma 2012, 28. Februar bis 1. März 2012, Karlsruhe
 
: Gommel, Udo

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Präsentation urn:nbn:de:0011-n-2062218 (2.6 MByte PDF)
MD5 Fingerprint: eb50dfe5b4593b0ac0bc0da75c0f03e2
Erstellt am: 28.6.2012


2012, 44 Folien, Vortrag Session 07: Fokus Halbleiter, 28.2.2012
Messe "Lounges" <2012, Karlsruhe>
Messe "Vision Pharma" <2012, Karlsruhe>
Deutsch
Vortrag, Elektronische Publikation
Fraunhofer IPA ()
Reinheitsspezifikation; cleanroom suitable materials (CSM); Volatile Organic Compound (VOC); VOC Emission; Ausgasung; Halbleiterindustrie; Partikelemission; Messtechnik; Partikelmesstechnik; Reinraum; Halbleiter; Reinheit; Werkstoff; Teilchen

Abstract
Zur Bestimmung des Reinraum- und Reinheitstauglichkeitesverhaltens von Werkstoffen für sauberkeitskritische Produktionsumgebungen müssen das Partikelemissionsverhalten, das VOC-Spektrum als auch die Reinigbarkeit von Oberflächen bestimmt werden. Der Vortrag gibt einen Abriss über mögliche Vorgehenweisen, Messstrategien, Bewertungstechniken und -algorithmen. Zur Veranschaulichung werden Beispiele aus unterschiedlichen Anwendungsszenarien herangezogen.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-206221.html