Vogt, H.H.VogtZimmer, G.G.Zimmer2022-03-022022-03-021986https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/173262Es wird ein Ueberblick gegeben ueber die thermische Behandlung vom Silizium mit Laserlicht zur Aktivierung von implantierten Ionen und zur Rekristallisierung von abgeschiedenen Siliziumschichten. (IMS)deAnwendungHerstellunglaserMikroelektronikStruktur621Anwendung des Lasers zur Herstellung neuer Strukturen für die Mikroelektronik.New structures for microelectronics by laser annealingjournal article