Sedlbauer, K.K.SedlbauerKrus, M.M.Krus2022-03-032022-03-032002https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/203149Bekanntermaßen kommt es in bewohnten Gebäuden an besonders gefährdeten Stellen aufgrund der vorliegenden hygrothermischen Randbedingungen zu Schimmelwachstum. Für den Bewohner bedeutet dies aufgrund der Produktion und Verbreitung von pathogenen Schadstoffen durch den Schimmelpilz eine potentielle Gesundheitsgefährdung. Um ein derartiges Pilzwachstum zu vermeiden, gilt es deshalb eine Verhinderungsstrategie zu entwickeln, die zum einen die Wachstumsvoraussetzungen für Schimmelpilze berücksichtigt und zum anderen aber auch die realen instationären Randbedingungen. Die wesentlichsten Einflussgrößen sind dabei die Temperatur, die Feuchte und das Substrat, wobei alle drei für gewisse Zeitperioden in einem günstigen Bereich liegen müssen. Für die Beurteilung von Schimmelpilzwachstum unter instationären hygrothermischen Randbedingungen wird dazu ein neuartiges biohygrothermisches Verfahren entwickelt. Dieses Verfahren beruht letztendlich auf dem Vergleich der gemessenen oder berechneten instationären Randbedingungen mit den Wachstumsvoraussetzungen für baupraktische Schimmelpilze. Beim biohygrothermischen Verfahren wird der Feuchtehaushalt der Schimmelpilzsporen modelliert und ein kritischer Wassergehalt hergeleitet, ab dem es zur Sporenkeimung kommt. Im Anschluß an die Beschreibung des neuen Verfahrens wird dessen Einsatz anhand von Anwendungsbeispielen demonstriert.de690Biohygrothermisches Verfahren zur Schimmelpilzbeurteilungjournal article