Notthoff, ClaudiaClaudiaNotthoff2022-03-032022-03-032005https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/207699Lithographieverfahren werden vor allem in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Sub-Mikrostrukturen auf einem geeigneten Trägermaterial eingesetzt. Zu den parallelen Strukturierungsmethoden gehören Optische Lithographie, Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Projektion, Atomlithographie sowie Röntgenlithographie. Serielle Verfahren sind das Ionenstrahl- und das Elektronenstrahlschreiben sowie Rastersonden-Lithographie. Unter dem Begriff Soft Lithographie werden solche Strukturierungsverfahren zusammengefasst, die zur Strukturerzeugung Stempel anstelle von Strahlung verwenden.deLithographielithographyElektronenstrahl-Projektionelectron projection lithographyElektronenstrahlschreibedirect-write electron-beamIonenstrahl-Projektionion beam projection lithographyIonenstrahlschreibeion beam direct-write depositionAtomstrahl-Lithographieatom lithographysoft lithography620356journal article