Gottwald, B.B.GottwaldKlein, P.P.KleinWestkämper, E.E.WestkämperGemmler, A.A.Gemmler2022-03-032022-03-032005https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/208528Auf Basis der molekulardynamischen Simulation wird der Einstieg in die Entwicklung moderner Schicht-Substrat-Systeme der Mikrosystemtechnik aufgezeigt. Beschichter und Anwender werden in die Lage versetzt, Morphologie und Eigenspannungen von Schicht-Substrat-Systemen so exakt zu steuern, dass präzise an die geforderte Anwendung angepasste Mikrosysteme abgeleitet werden können.An introduction to the development of modern coatings in micro system techniques will be presented. Supported by the tool, engineers will be able to control morphology and stress of layer substrate systems in such a way that modern micro systems will be matched precisely to the required usage.deMolekulardynamikBeschichtungssimulationBeschichtungsverfahrenPVD (Physical vapour deposition)chemical vapour deposition (CVD)BeschichtenSimulation670658journal article