Rethberg, SebastianSebastianRethbergStraach, SteffenSteffenStraachKühnel, ThomasThomasKühnel2022-03-082022-03-082020https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/312134Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten eines bandförmigen Substrates (12; 22) innerhalb einer Vakuumkammer (10; 20), umfassend eine Beschichtungseinrichtung (11); eine Kühleinrichtung mit zumindest einem konvexen Oberflächenbereich, welchen das bandförmige Substrat (12; 22) zum Zeitpunkt des Beschichtens zumindest teilweise berührt sowie ein Wickelwerk, mindestens bestehend aus einer Vorratsrolle (13; 23), einer Aufnahmerolle (15; 25) und mehreren Umlenkrollen (14; 24), wobei das bandförmige Substrat (12; 22) zumindest an der Seite, mit welcher das bandförmige Substrat (12; 22) die Kühleinrichtung berührt, aus einem elektrisch leitfähigen Material besteht, wobeia) die Kühleinrichtung einen elektrisch leitfähigen Grundkörper (16a; 26a) und zumindest im konvexen Oberflächenbereich eine äußere Randschicht (16b; 26b) aus einem elektrisch isolierenden Material aufweist;b) das Wickelwerk potenzialfrei bezüglich der elektrischen Masse der Vorrichtung ausgebildet ist undc) eine elektrische Spannung von mindestens 10 V zwischen dem elektrisch leitfähigen Grundkörper (16a; 26a), der Kühleinrichtung und dem elektrisch leitfähigen Material des Substrates (12; 22) ausgebildet ist.de620667670patent102019102008