Knauß, Anna M.Anna M.KnaußDietz, DorotheeDorotheeDietzJupe, AndreasAndreasJupeKappert, HolgerHolgerKappertVogt, HolgerHolgerVogtMai, LukasLukasMaiDevi, AnjanaAnjanaDevi2022-03-142022-03-142019https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/405643Im Kontext der Miniaturisierung von Gassensoren bietet die Fabrikation von Metalloxidnanodrähten die Möglichkeit der Integration dieser auf CMOS-Chips (CMOS: engl. für complementary metal oxide semiconductor). Dies ermöglicht den weitläufigen Einsatz von Mikrosensoren zur Überwachung unserer Umgebung hinsichtlich gesundheitsgefährdender Gase. Neue ALD-Precursormaterialien (ALD: engl. für atomic layer deposition) und deren minimale Schichtdicke besit-zen das Potenzial für hohe Sensitivität und Selektivität der Sensoren und stellen einen Fortschritt für Mikrosensoren in der Industrie 4.0 dar. Die Machbarkeit solcher freistehenden 3D-Nanodrahtstrukturen und eines ebenso strukturierten Heizers, hergestellt in einem Mikrosystemtechnikreinraum, konnte demonstriert werden.A novel miniaturized multi sensor implant for monitoring hemodynamic parameters is presented. High accuracy pressure measurements are performed with a capacitive pressure sensor. Further sensors, such as acceleration and temperature sensors, allow compensating the impact of patient's inclination and temperature variations on the pressure measurement. A multi-functional transponder application-specific integrated circuit (ASIC) manages storage of ID and sensor calibration data, signal processing and telemetric energy and data transmission with an extracorporeal reading unit. Implant components are assembled on a low temperature co-fired ceramics (LTCC) circuit board which integrates an antenna coil enabling an inductive near-field coupling at a frequency of 13.56 MHz. The implant is encapsulated by biocompatible polymers for a streamlined shape and reduction of thrombogenicity.deatomic layer deposition (ALD)MetalloxidGassensorNanodrahtCMOS kompatibel3D-Struktur621Herstellung nano-skalierter Gassensoren unter Verwendung neuer Metalloxid-ALD-PrecursormaterialienProduction of nanoscale gas sensors using new metal oxide ALD precursor materialsconference paper