Töpper, M.M.TöpperLopper, C.C.LopperRöder, J.J.RöderHauck, K.K.HauckFischer, T.T.FischerBaumgartner, T.T.BaumgartnerReichl, H.H.Reichl2022-03-102022-03-102005https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/350386en621WLP Photoresists for the 21st Centuryconference paper