Janes, J.J.Janes2022-03-082022-03-081990https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/302379Eine Plasmaaetzvorrichtung, die insbesondere zum Trockenaetzen eines Wafers dient, erzielt mittels einer Vorrichtung zum Erzeugen einer stehenden Schallwelle in dem Plasma eine erhoehte Aetzrate bei erhoehter Anisotropie.de608621patent1989-3900768