Meier, S.S.MeierBaranyai, A.A.Baranyai2022-03-082022-03-082001https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/305038Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung einer haftfesten, amorphen Kohlenwasserstoffschicht auf einer Substratoberflaeche mittels ionenunterstuetzter Abscheidung, mit einer Substratelektrode, deren Oberflaeche die Substratoberflaeche bildet, auf der die a-C:H-Schicht abgeschieden wird. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass waehrend des Abscheidevorganges die Oberflaeche der Substratelektrode zumindest zeitweise auf Temperaturen von unter 203 K gekuehlt wird.DE 19952465 C UPAB: 20010312 NOVELTY - Production of an adhesive-tight amorphous hydrocarbon layer on a substrate surface uses ion-supported deposition with a substrate electrode whose surface forms the substrate surface on which an a-C: H layer is deposited. During the deposition process, the surface of the substrate electrode is temporarily cooled to below 203 K. DETAILED DESCRIPTION - Preferred Features: The substrate electrode is cooled to temperatures down to 10 K, preferably 70-170 K. Cooling of the substrate electrode is carried out using an alcohol or liquid nitrogen as cooling agent which flows through the substrate electrode. The ion-supported deposition is carried out in the framework of a cold plasma deposition process such as PVD or PECVD. USE - For cutting tools. ADVANTAGE - Production costs are reduced.de608531620patent1999-19952465