Reimer, K.K.ReimerWitt, M.M.WittKähler, D.D.KählerEichholz, J.J.EichholzRatzmann, L.L.RatzmannBrünger, W.W.BrüngerDöring, H.-J.H.-J.DöringHaugeneder, E.E.HaugenederEder-Kapl, S.S.Eder-KaplNowak, R.R.Nowak2022-03-102022-03-102005https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/34968910.1117/12.637320en621Mask manufacture for projection mask-less lithography (PML2)conference paper