Flaske, HenrikHenrikFlaskeMeyer, BjörnBjörnMeyerMattausch, GöstaGöstaMattauschKubusch, JörgJörgKubuschWeiss, StefanStefanWeissKirchhoff, VolkerVolkerKirchhoffLabitzke, RainerRainerLabitzkeZimmermann, BurkhardBurkhardZimmermann2024-09-062024-09-062022-11-03https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/474612Die Erfindung betrifft ein Hohlkathodensystem zum Erzeugen eines Plasmas und ein Verfahren zum Betreiben eines solchen Hohlkathodensystems, bei welchem eine Anodeneinrichtung (13), eine Stromversorgungseinrichtung (14) zum Bereitstellen einer zwischen einem Kathodenröhrchen (1 1a; 11b) und der Anodeneinrichtung (13) geschalteten elektrischen Spannung und mindestens ein Gasreservoir (15) zum Bereitstellen eines das Kathodenröhrchen (11a; 11b) durchströmenden Gases verwendet werden, wobei mindestens zwei Kathodenröhrchen (11a; 11b) verwendet werden, welche elektrisch leitfähig miteinander verbunden werden und wobei jedem Kathodenröhrchen (11a; 11b) ein separates Stellglied (17a; 17b) zugeordnet wird, mittels dessen die Menge des Gases, welches das dem jeweiligen Stellglied (17a; 17b) zugeordnete Kathodenröhrchen (11a; 11b) durchströmt, eingestellt wird.depatentDE102021111097 A1DE202110111097