Clade, JürgenJürgenCladeDomann, GerhardGerhardDomannLang, KatharinaKatharinaLang2022-03-082022-03-082021https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/312193Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Silikon-Substraten oder Silikonkomposit-Substraten, bei welchem mindestens ein Silan ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Alkoxysilanen, Hydroxysilanen und Mischungen hiervon bereitgestellt wird, mindestens ein flüssiges Oligosiloxan durch Sol-Gel-Reaktion aus dem mindestens einen Silan hergestellt wird, eine erste Vernetzungsreaktion durchgeführt wird, bei welcher eine zumindest teilweise Vernetzung des mindestens einen Oligosiloxans zu einem Silikonmaterial erfolgt, und eine zweite Vernetzungsreaktion durchgeführt wird, bei welcher in mindestens einem Teilbereich des Silikonmaterials eine weitergehende Vernetzung des Silikonmaterials erfolgt, wobei die erste Vernetzungsreaktion und die zweite Vernetzungsreaktion zueinander orthogonal sind.de666patent102019216713