Bachem, K.H.K.H.BachemHofmann, P.P.HofmannKoehler, KlausKlausKoehler2022-03-082022-03-081989https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/302205Bei einer Gasversorgungseinrichtung fuer eine Molekularstrahlepitaxieanlage wird mit Hilfe eines Regelsystems aus einem Regelventil (4) und einem Drucksensor (6) ein konstanter Druck in einer Speiseleitung (5) aufrechterhalten, die ueber ein Speiseventil (8) und eine flusskalibrierte Drossel (9) mit der Zufuhrleitung einer Gasquelle (1) sowie ueber eine Entsorgungsleitung (11), ein Schaltventil (12) und eine flusskalibrierte Drossel (13) mit einem Entsorgungssystem (14) verbunden ist. Das Speiseventil (8) und das Schaltventil (12) werden im Gegentakt geschaltet, wenn die Gaszufuhr zur Gasquelle (1) umgeschaltet wird.de608621667patent1987-3715717