Hilt, MichaelMichaelHiltBauder, ChristinaChristinaBauderChrist, UlrichUlrichChrist2022-03-042022-03-042014https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/235901Eine hohe Photoaktivität von selbstreinigenden Beschichtungen bedingt auch einen teilweisen Abbau organischer Beschichtungskomponenten. Mit Hilfe einer am Fraunhofer IPA entwickelten Messtechnik lassen sich jetzt hinsichtlich dieses Zielkonfliktes optimierte Beschichtungen formulieren.deorganische Beschichtungselbstreinigende SchichtPhotokatalysephotodegradationfunktionale BeschichtungBeschichtung667Funktionalität versus Stabilitätjournal article