Under CopyrightYildirim, BaycanBaycanYildirim2022-03-0613.2.20202019https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/26035610.24406/publica-fhg-260356Physical Vapour Deposition (PVD)-Verfahren sind Dünnschichttechnologien, bei denen das Beschichtungsmaterial mittels physikalischer Verfahren in die Gasphase überführt und anschließend auf einem Substrat kondensiert wird. Dabei rückt die neue High-Speed PVD-Technologie (HS-PVD) in den Vordergrund, charakterisiert durch eine essentiell höhere Abscheiderate verbunden mit der Realisierung dickerer und damit widerstandfähigerer Schichten. Die abgeschiedenen Schichten dienen insbesondere der Erhaltung wirkungsgradoptimaler Konturen und der Erhöhung der Lebensdauer zum Schutz vor Erosion im Bereich stationärer und rotierender Komponenten wie z.B. in Flugtriebwerken oder bei Pumpensystemen.deSchichtGasphasenabscheidungphysical vapour depositionPVDhigh speed-PVDerosion620journal article