Schulz, UlrikeUlrikeSchulzLudwig, HenningHenningLudwigKaiser, NorbertNorbertKaiserMunzert, PeterPeterMunzert2022-03-082022-03-082014https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/310432DE102013103075A1 [DE] Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelungsschicht (5) auf einem Substrat (1) angegeben, umfassend die Verfahrensschritte: Aufbringen einer Schicht (2) aus einem organischen Material oder einem organisch-anorganischen Hybridmaterial auf das Substrat (1), Erzeugung von Nanostrukturen (4) in der Schicht (2) aus dem organischen Material oder dem organisch-anorganischen Hybridmaterial mit einem Plasmaaetzprozess, und Aufbringen einer anorganischen Schicht (3) auf die Nanostruktur, wobei die anorganische Schicht eine Dicke zwischen 50 nm und 200 nm aufweist. Weiterhin wird ein Substrat (1) mit der auf diese Weise hergestellten Entspiegelungsschicht (5) angegeben.de620patent102013103075