Dudaicevs, H.H.DudaicevsKandler, M.M.KandlerMokwa, W.W.Mokwa2022-03-082022-03-081992https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/320070In diesem Beitrag werden kapazitive Hochdrucksensoren vorgestellt, die mit dem Verfahren der Silizium-Oberflächenmikromechanik hergestellt werden. Sensoren mit Membrandurchmessern von 26 fm, 30 fm und 40 fm zeigen Empfindlichkeiten von 3, 5 und 20 fF/bar. Durch Verwendung eines Referenzelementes kann die Temperaturabhängigkeit auf 0,03 %/xC reduziert werden. Die Sensoren zeigen auch nach 200000 Lastwechseln zwischen 0 bar und 300 bar keinerlei Änderungen im Nullpunkt oder der Empfindlichkeit.decapacitive transducerCMOS-TechnikCMOS-technologyDruckmessungkapazitives Meßverfahrenpressure measurementPulsdauermodulationpulse time modulation621conference paper