Triantafyllou, M.M.TriantafyllouBetz, H.H.BetzHeuberger, A.A.HeubergerTischer, P.P.Tischer2022-03-082022-03-081981https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/313231enLithographieLithographiemaskeMaskenverzerrungRöntgenstrahlenSiliziumDistortion measurements on pure-silicon and siliconplastic X-ray masksVerzugsmessungen an Reinsiliziummasken und Silizium-Plastikmasken fuer die Roentgenlithographieconference paper