Dreher, RalfRalfDreherEmmerich, RudolfRudolfEmmerich2022-03-082022-03-082019https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/312102Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Trägermaterials, wobei die Beschichtung über eine plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck (AP-PECVD) im Remote-Betrieb erfolgt und wobei- die Gasmengenströme des Plasmagases, des Trägergases und des Precursors der folgenden Bedingung genügen:- und die mittlere eingespeiste Leistung und der Gasmengenstrom des Precursors der folgenden Bedingung genügen:de660patent102018202438