Untersuchung des Wachstumsverhaltens und der Bandlücke von ALD-hafniumbasierten Oxidschichten mittels winkelaufgelöster Röntgenphotoelektronenspektroskopie

Nawka, S.S.Nawka2022-03-072022-03-072010https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/278804de620666Untersuchung des Wachstumsverhaltens und der Bandlücke von ALD-hafniumbasierten Oxidschichten mittels winkelaufgelöster Röntgenphotoelektronenspektroskopiedoctoral thesis