Junghähnel, ManuelaManuelaJunghähnelPreußner, ThomasThomasPreußnerHartung, UllrichUllrichHartung2022-03-082022-03-082017https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/311064Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ausbilden einer Schicht mit hoher Lichttransmission und/oder niedriger Lichtreflexion, wobei die Schicht auf einem Substrat (2) abgeschieden wird. Dabei wird die Schicht als Mischschicht eines Materials A und eines Materials B abgeschieden, wobei die Schicht im Schichtdickenverlauf mit einem Gradienten derart ausgebildet wird, dass das Material B an der Substratoberfläche den geringsten Anteil und an der Schichtoberfläche den höchsten Anteil am Schichtmaterial aufweist und dass nach dem Abscheiden der Schicht das Material B zumindest teilweise aus der Schicht entfernt wird.de620patent102015113542