Bartzsch, H.H.BartzschGlöß, D.D.GlößFrach, P.P.FrachGittner, M.M.GittnerGottfried, C.C.GottfriedSuzuki, K.K.Suzuki2022-03-112022-03-112012https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/376393enITOTCOmagnetron sputteringmagnetic field620667670conference paper