Moeller, C.C.Moeller2022-03-082022-03-082004https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/306269Ein solches Verfahren soll reproduzier- und steuerbar sein und sich in den bekannten Herstellungsprozess eines vertikalen Bauelements einpassen. Das Verfahren soll eine optimale Einstellung der Oxidationsraten mit technisch wenig aufwendigen Mitteln erlauben sowie das Bauelement planarisieren und dadurch den Herstellungsaufwand stark reduzieren. Hierfuer ist erfindungsgemaess ein Verfahren vorgesehen, bei dem zunaechst die ein oxidierbares Material enthaltende Schicht zur Einstellung einer definierten Oxidationsrate mit Loechern versehen wird und anschliessend durch die Loecher hindurch die freiliegenden Bereiche der Schicht oxidiert werden. Die Oxidationsrate wird in dem Verfahren ueber den Durchmesser und/oder die Anzahl der Loecher eingestellt und die Form des oxidierten Bereiches ueber die Anordnung der Loecher.DE 10226320 A UPAB: 20040213 NOVELTY - Selective oxidation of a layer containing an oxidizable material in a vertical component comprises providing the layer with holes to adjust a defined oxidation rate, and oxidizing the exposed regions of the layer through the holes. USE - For the selective oxidation of a layer of an LED, resonant LED, VCSEL or photodetector. ADVANTAGE - The oxidation is reproducible and is controlled.de608621patent2002-10226320