Dietsch, R.R.DietschHopfe, S.S.HopfeMai, H.H.MaiOertel, G.G.OertelPompe, W.W.PompeProkop, M.M.ProkopSchöneich, B.B.SchöneichVöllmar, S.S.VöllmarWehner, B.B.WehnerWeißbrodt, P.P.WeißbrodtWerner, P.P.Werner2022-03-082022-03-081992https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/319514Multilayer structures are characterized by TEM, XD, AES and SNMS. Results obtained for X-ray optical behaviour, layer stack morphology and microstructure of individual layers will be described and their explanation is supported by computer simulation data.enAES depth profilingAES-Tiefenprofilanalysedepth profile simulationdünne Schichtlaser ablationNi/C multilayer structureNi/C-MultischichtRöntgenbeugungRöntgenspiegelSNMS depth profilingSNMS-TiefenprofilanalyseTEM-cross-sectionthin filmsTiefenprofilsimulationx-ray diffractionX-ray mirror667621671Analytical observations and depth profile simulation in regular-d and graded-d metal/carbon multilayers prepared by laser pulse vapour deposition.Analytische Untersuchungen und Tiefenprofilsimulation an mittels Laserimpuls-Gasphasenabscheidung hergestellten Metall/Kohlenstoff Multischichten regulärer und veränderlicher Schichtdickenfolgeconference paper