Vissing, KlausBrenner, ThorbenMayer, BerndTracht, KirstenGogolin, MicheleMicheleGogolin2022-12-162022-12-162022-11-14https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/430110Hexamethyldisilsoxan (HMDSO) basierte Dünnschichten, abgeschieden mit der Niederdruckplasmatechnik, ermöglichen die Abscheidung von Haftvermittlerschichten bis Trennschichten im Nanometer bis Mikrometerbereich. Die plasmapolymeren Dünnschichten wurden in einer Niederdruckplasmaanlage mit einer kapazitiven Hochfrequenzanregung bei 13,56 MHz abgeschieden. Trennschichten können als Alternative zu Formtrennmitteln als dauerhafte antiadhäsive Schicht verwendet werden. Die antiadhäsiven Eigenschaften von Trennschichten mit E-Modulen von 4 - 8 GPa sind bisher vielfach untersucht. In der industriellen Praxis gibt es dennoch den Bedarf an plasmapolymeren Trennschichten mit höheren E-Modulen, da sich davon eine höhere Beständigkeit gegen mechanische Belastungen und Schrumpf des Bauteils erhofft wird. Daher wurde in dieser Arbeit in einem hohen Plasmaleistungsbereich und mit Variationen des HMDSO zu Sauerstoff Verhältnisses zunächst die Steigerung des E-Moduls angestrebt. Die plasmapolymeren Schichten wurden weiterhin auf ihre Verbundfestigkeit mittels eines Stirnabzugsversuches untersucht. Als Klebstoff wurde hierfür ein Epoxid gewählt. Überdies wurden die Schichten über weitere Messmethoden der Oberflächentechnik, wie die Bestimmung der Oberflächenenergien, charakterisiert.demaster thesis