Heuberger, A.A.Heuberger2022-03-022022-03-021982https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/170191deHöchstintegrationRöntgenstrahlungSpeicherringSynchrotronstrahlung530Untersuchungen zur Mikrolithographie für hochintegrierte Halbleiterbauelemente am Berliner Speicherring für Synchrotronstrahlungjournal article