Knopf, HeikoHeikoKnopfEilenberger, FalkFalkEilenbergerSchulz, UlrikeUlrikeSchulz2022-03-082022-03-082020https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/312008Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Schichtsystems (10) angegeben, umfassend die Schritte:- Herstellen einer Grundschicht (4),- Aufbringen einer 2D-Schicht (5) eines Übergangsmetall-Dichalkogenids auf die Grundschicht (4), wobei die 2D-Schicht (5) eine inselförmige Schicht ist und Bereiche der Oberfläche der Grundschicht (4) freiliegen,- Durchführen einer Plasmabehandlung, bei der geladene Teilchen auf die 2D-Schicht (5) und auf die freiliegenden Bereiche der Grundschicht (4) treffen, wobei die geladenen Teilchen eine Energie von nicht mehr als 70 eV aufweisen, und- Aufbringen einer Deckschicht (6) auf die 2D-Schicht (5) und die freiliegenden Bereiche der Grundschicht (4). Weiterhin wird ein mit dem Verfahren herstellbares optisches Schichtsystem (10) angegeben.de620patent102018125335