Hofmann, OskarOskarHofmannKönig, Hans-GeorgHans-GeorgKönig2024-05-222024-05-222022-06-23https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/468654Bei einem Verfahren zur Einstellung und/oder dynamischen Anpassung der Leistungsdichteverteilung von Laserstrahlung in einer Zielfläche wird ein von einer Laserstrahlquelle ausgehender Laserstrahl in einer Strahlformungseinrichtung zunächst einer Strahlformung unterworfen und anschließend in einer Verstärkeranordnung verstärkt und auf die Zielfläche gerichtet. Die Strahlformungseinrichtung weist dabei ein oder mehrere hochauflösende Strahlformungselemente auf, die eine Strahlformung von mehr als 500 Freiheitsgraden ermöglichen. Bei dem vorgeschlagenen Verfahren wird die Strahlformungseinrichtung entweder auf Basis einer vorab durchgeführten Simulation mittels inverser Propagation oder auf Basis eines Vergleichs der gemessenen oder bestimmten Leistungsdichteverteilung in der Zielfläche mit der gewünschten Leistungsdichteverteilung so angesteuert, dass die Leistungsdichteverteilung in der Zielfläche der gewünschten Leistungsdichteverteilung möglichst nahe kommt.In a method for setting and/or dynamically adapting the power density distribution of laser radiation in a target surface, a laser beam (2) emanating from a laser beam source (1) is first subjected to beam forming in a beam forming device (3) and then amplified in an amplifier assembly (4) and directed onto the target surface. The beam forming device (3) has one or more high-resolution beam forming elements which allow beam forming with more than 500 degrees of freedom. In the proposed method the beam forming device (3) is controlled either on the basis of a simulation previously carried out by means of inverse propagation or on the basis of a comparison of the measured or determined power density distribution in the target surface with the required power density distribution, such that the power density distribution in the target surface is as close as possible to the required power density distribution.deVerfahren zur Einstellung und/oder dynamischen Anpassung der Leistungsdichteverteilung von LaserstrahlungpatentDE102020134416 A1DE202010134416