Baur, R.R.BaurHoleczek, H.H.Holeczek2022-03-032022-03-031999https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/194980Eine neue Verfahrens- und Anlagentechnik ermöglicht es, strukturierte Hartchromschichten maßgenau zu erzeugen. Die Oberflächentopographie entsteht während des Galvanisiervorgangs und kann über die Prozeßparameter gesteuert werden.deAnlagenplanungBeschichtenChromGalvanisierenSchutzschichtVerfahrenstechnik670669journal article